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CVD系统

CVD系统

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这款配置的低真空CVD系统集1200度开启式真空管式炉,多通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产(有双温区、三温区、多温区),可预抽真空(有高真空、低真空),通多种气氛(供气系统有质子流量控制器和浮子流量控制器)。真空泵、阀采用进口设备,性能可靠。控制电路选用PID程控技术,具有控温精度高,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。可以定做生产。

点击次数:  更新时间:2020-05-28  【打印此页】  【关闭
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